EUV露光 フォトマスク欠陥検査 本 おすすめ

EUV露光やフォトマスク欠陥検査について学ぶ本を探すとき、どの範囲を扱う一冊を選べばよいか迷いますよね。

この本はマスク計測に加え、光源や光学系などEUV露光の幅広い分野を学べます。

今回は、英語書籍「EUV Lithography, Second Edition」を紹介します。

おすすめ商品の早見表

商品名	扱う範囲	言語	製本
EUV Lithography, Second Edition	EUV露光全般（マスク・マスク計測を含む）	英語	ハードカバー

EUV Lithography, Second Edition

EUV露光を幅広く学びながら、マスク検査に関する内容にも触れたい人には「EUV Lithography, Second Edition」がおすすめです。光源や光学系、マスク、レジスト、スキャナーなどを扱い、目次にはマスク検査用の高輝度LDP光源、およびEUVマスクとマスク計測の章があります。

欠陥検査に特化した書籍ではなく、英語で書かれたハードカバー版です。

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