フォトレジスト 現像欠陥対策 本 おすすめ

フォトレジストの現像欠陥について調べたいとき、どの本を選べばよいか迷いますよね。

現像欠陥の発生メカニズムや抑制手法を扱う項目があり、関連する内容を目次から探せます。

今回は、フォトレジスト材料開発の新展開をご紹介します。

おすすめ商品の早見表

商品名	現像欠陥に関する内容	発行年月	ページ数
フォトレジスト材料開発の新展開	欠陥発生メカニズム、現像欠陥発生抑制手法	2009年8月	317ページ

フォトレジスト材料開発の新展開

現像欠陥の発生メカニズムや抑制手法を調べたい人には、フォトレジスト材料開発の新展開がおすすめです。目次には欠陥発生メカニズムと、現像欠陥発生抑制手法・今後の取り組みを扱う項目があります。

KrFレジスト、ArFレジスト、液浸プロセス用材料を扱い、光化学反応や酸発生剤についても詳しく解説しています。微細加工用レジスト材料に携わる研究者・技術者の研究開発に役立つことを目的とした、2009年8月発行の本です。

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